浙江求是創(chuàng)芯半導(dǎo)體設(shè)備有限公司成立于2021年6月10日，注冊地址為浙江省杭州市臨平區(qū)余杭經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)順達(dá)路500號1幢103室，公司法定代表人曹建偉，注冊資本為3750萬，現(xiàn)有員工90人，統(tǒng)一社會信用代碼91330110MA2KH4F16J。經(jīng)營范圍包括一般項目：半導(dǎo)體器件專用設(shè)備制造；半導(dǎo)體器件專用設(shè)備銷售；技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣；專用設(shè)備制造。（不含許可類專業(yè)設(shè)備制造）；技術(shù)進出口；貨物進出口(除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目外，憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動)。
2021年12月22日，浙江求是創(chuàng)芯半導(dǎo)體設(shè)備有限公司于臨平區(qū)經(jīng)濟信息化和科學(xué)技術(shù)局進行備案，針對年產(chǎn)10臺/套EPI外延、LPCVD沉積、ALD沉積半導(dǎo)體設(shè)備技改項目，總投資約2億，總用地面積9畝，建設(shè)規(guī)模與建設(shè)內(nèi)容（生產(chǎn)能力）為項目改造利用現(xiàn)有廠房，購置檢測儀器等設(shè)備，達(dá)產(chǎn)后形成年產(chǎn)10臺/套EPI外延、LPCVD沉積、ALD沉積半導(dǎo)體專用設(shè)備等生產(chǎn)能力。項目建成后，新增營業(yè)收入1.5億元，利稅總額約4000萬。本項目嚴(yán)格按照安全生產(chǎn)的相關(guān)制度執(zhí)行。
為配套年產(chǎn)10臺/套EPI外延、LPCVD沉積、ALD沉積半導(dǎo)體設(shè)備技改項目，浙江求是創(chuàng)芯半導(dǎo)體設(shè)備有限公司擬進行新建特氣房及廠務(wù)改造項目（下簡稱“本項目”）。項目建設(shè)內(nèi)容：在求是園區(qū)東北角新建占地面積80m2的特氣房，特氣房包括氧化性特氣間、氫氣間、易燃特氣間、劇毒特氣間共4間，用于存放8種危險化學(xué)品有氫氣、氨氣、三氟化氮、二氯硅烷（DCS）、甲基硅烷、鍺烷、乙硼烷、砷烷氣體鋼瓶。另廠務(wù)改造部分不在本次評價范圍內(nèi)。
